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哈瓦那双年展开幕后古巴逮捕多名艺术家

随着第十三届哈瓦那双年展在古巴拉开帷幕,一些文化人物成为了政府的目标,因为他们公开支持由艺术家领导的对第349号条例的抗议活动——这一臭名昭着的新立法将该国独立艺术活动定为犯罪。

古巴艺术家路易斯·曼努埃尔·奥特罗·阿尔坎塔拉(Luis Manuel Otero Alcántara)是去年举行的替代双年展#00Bienal de La Habana的组织者,至今已经被逮捕三次。他上周因与两名合作者一起表演而再次被捕——这个项目是对古巴公民丹尼尔·略伦特(Daniel Llorente)2017年五一游行中在哈瓦那革命广场所上所采取的行动的致敬。 阿尔坎塔拉被拘留了四天,但没有受到正式指控。在他被释放后的第一天又被警方带走了。

4月12日,艺术家米歇尔·马托斯(Michel Matos)被警察威胁并接受了长达九小时的审讯。艺术家阿茂里·帕切科(Amaury Pacheco)昨天也被国家安全部队拘留,几个小时后释放。根据艺术家、策展人和作家可可·福斯科(Coco Fusco)的说法,这些逮捕行动是政府“分而治之”运动的一部分。当局将这些创作者称为持不同政见者和活动家,而不是艺术家。该策略将艺术从话语中移除,成为一个政治问题而非审查问题。

可可·福斯科自己在4月10日星期三抵达哈瓦那国际机场时被拒绝入境。事件发生后,福斯科告诉《艺术论坛》:“政府认为骚扰和威胁艺术家是合法的,这对我来说是个悲剧。使艺术家并沉默且不让他们对文化进行批判性的讨论,以便通过错误的印象来打动游客,仿佛古巴唯一的艺术就是国家希望展示的那些。”

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