多位艺术家宣布退出哈瓦那双年展
据Hyperallergic报道,截至目前已经有五位参与者宣布退出今年的哈瓦那双年展,以示对仍被政府关押的艺术家和社会行动者的支持。据报道,已宣布退出这场由国家赞助的双年展的包括法籍加蓬艺术家娜塔丽·安德索诺·木巴·比科洛(Nathalie Anguezomo Mba Bikoro)、瑞士影像艺术家乌苏拉·比尔曼(Ursula Biemann)、古巴画家艾米·乔里斯蒂·阿格勒斯(Aimee Joaristi Argüelles)、哥伦比亚策展人玛丽亚·贝伦·赛斯·德伊瓦拉(Maria Belén Saez de Ibarra)和法国评论家尼古拉·布希欧(Nicolas Bourriaud)。
与此同时,抵制双年展的浪潮也在加剧。迄今为止,已有四百多人签署了由古巴艺术团体27N成员撰写、10月15日由e-flux出版的一封公开信,呼吁艺术家和文化工作者拒绝参加该展览。这封信的作者表示,抵制的原因之一是“古巴政府对古巴文化工作者和寻求行使宪法权利的古巴公民犯下的不公正行为”。他们指出,“古巴艺术家已被关押数月……数十位文化工作者被软禁……并且,在7月11日发生的大规模抗议活动中,有1000多名同胞被逮捕,其中有500多名仍在监狱中,包括一些未成年人。”
哈瓦那双年展计划于11月15日启动,古巴将在同一天向已接种疫苗的游客开放。